안녕하십니까.

저는 반도체 제조 공정에서 발생된 유해가스(HF, SiH4, WF6, N2O, SiH2Cl2, WF6, SiF6, SiF4 등등)를 장비에서 태워 정화시켜 주는 장비(Scrubber)를 제조하는 회사에 근무하는 사람입니다.
장비에 유입된 폐가스(유해가스)를 약 1000~1200도씨에서 Burning하는 과정에서 버너부 및 내부벽 재질(모넬 및 SUS계열 적용)에 가스 이물질(Particle)의 고착정도가 심하여 어느정도 시간이 지나면 고착된 이물질을 제거하는 것이 무척이나 어렵습니다.
따라서, 위와같은 분위기를 적용하는 조건에서 Burner 재료에 어떤 방법을 적용하면 위와 같은 문제점이 조금이나마 해결될 수 있는지 좋은 조언 부탁드립니다.

감사합니다...