이미 인터넷자료등을 통해서 파악하셨겠지만, 간단하게 설명하자면 전위를 일정시간 유지시킨 후 전류를 측정하는 것이 정전위법(potentiostatic methods), 일정 스캔속도로 전위를 변화시키면서 전류를 측정하는 것이 동전위법(potentiodynamic method)이라고 할 수 있습니다. 동전위법의 장점이라면 빠른 시간내에 분극곡선을 얻을 수 있으니, 전체 전위범위(즉, 환경의 부식성, 반응참여물질의 종류 등)에 따른 재료의 분극거동을 쉽게 파악할 수 있다는 것입니다. 최근에는 장비의 발달과 함께 동전위법을 많이 사용합니다. 이에 비해서 정전위법은 일정시간 전위를 유지시키고 (예를 들면 50mV씩 전위를 step으로 변화시키면서 5분간 유지) 전류를 측정하는 방법입니다. 따라서, 시간이 매우 오래 소요되는 특징이 있습니다. 그래서 정전위법은 initiation/propagation에 어느 정도의 시간이 필요한 부식기구 규명에 사용되는 경우가 많습니다. 예를 들어서 crevice corrosion/pitting corrosion 연구 등을 들수 있습니다. 또한, 금속표면에 생성되는 부식생성물이 전체 전기화학반응(즉, 내식성 등)에 영향을 미치게 되므로 이러한 부식생성물의 동정/분석 등등에도 활용됩니다. 또한, 미생물부식의 경우 동전위분극곡선을 너무 빠른 scan rate로 실시하면 미생물의 생장에 영향을 줄수 있을 것 같다는 이야기도 들은 적이 있습니다. ASTM G5를 보시면 정전위법/동전위법으로 양분극곡선을 그리는 방법에 대해서 나와있습니다. 1N 황산용액에서의 데이터를 보면 대충 0.6V/h 정도의 slow scan을 했을 때 두 방법의 분극곡선이 거의 같은 값을 보입니다. 절대적인 것은 아니니 참고자료로... 요약하면 일반적인 레벨의 분극곡선은 적당한 scan rate (참고문헌등을 활용하면 되겠죠..)의 동전위분극실험으로 얻고, 특수 목적의 경우 정전위분극실험을 활용하면 될 것 같습니다. 이 설명은 매우 피상적인 설명이므로 조금 더 정확하고 자세한 사항을 아시려면 전기화학교재나, 또는 반드시 전기화학 이론에 대해서 상세히 설명한 부식교재를 활용하시구요.. 개인적으로는 담당과목 교수님께 직접 물어보시는 걸 추천합니다.

이선엽 박사님이 좋은 설명해주셨네요. 감사합니다.